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使用光纤光谱仪进行等离子体监测
半导体工业中，我们通过光刻技术制造和控制晶圆。其中蚀刻是该过程的主要环节，当在晶圆表面蚀刻时，可使用等离子体监测跟踪蚀刻穿过晶圆层，并确定等离子体何时完全蚀刻特定层并到达下一层。通过监测在蚀刻期间由等离子体产生的发射线，可精确追踪蚀刻过程
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【微光谱应用】探究不同测试方法在电致发光器件表征中的不同
电致发光材料（Electroluminescent Materials）被广泛应用于各种显示、照明等领域。在电致发光材料性能表征的过程中，我们通常将待测样品加上恒定的电压，来测试器件的电流、亮度等参数。这些参数很多都受器件电阻的影响，因此准确的获得器件电阻就非常的重要。
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射频放电等离子体光谱原位采集
넶48 2026-04-13 -
Ocean Optics 光纤光谱仪反射率颜色测量-壁画保护研究应用
넶42 2025-12-15 -
XRD联用高低温探针冷热台
넶49 2025-01-02
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钙钛矿薄膜原位光谱表征、集成旋涂制膜与实时光学检测
넶2 2026-08-04 -
钙钛矿溶液原位纳米粒度实验
넶6 2026-07-29 -
圆满交付！成套仪器设备送达客户现场。
넶10 2026-07-22 -
热蒸发真空镀膜机交货验收完成！
넶16 2026-06-23
